P&E 2010:残暴开裂 宾得645D雷人亮相

　　第13届中国国际照相机械影像器材与技术博览会（2010CHINA P&E），于2010年6月10日至6月13日在北京中国国际展览中心隆重举办。本次大展，ZOL数码影像事业部十几位专业编辑组成阵容强大的记者团，携手百名网友亲赴现场，第一时间传递展会资讯，全新视角报道展会热门，真实互动展现观众心声，对大展进行多维度全方位的报道。

　  在此次P&E PENTAX展出了即将上市的中画幅数码单反宾得645D，倍受观众关注，新品展出就围了个水泄不通。645D采用645AF2卡口，能够兼容过去的FA645镜头，所采用的44×33mm 4000万像素CCD传感器由柯达提供，感光度范围可被扩展至ISO100-1600，采用14bit A/D转换，拍摄分辨率高达7264×5440，TIFF文档的单张尺寸达120MB，RAW+JPEG格式的单张尺寸也要50-60MB，拥有视野率达98%、放大倍率达0.62倍的光学取景器，而其背后是一块3英寸、92.1万像素的顶级LCD，其在各个方向均可达到170度的可视角度，并且经过强化的保护镜片能够承受高达50kg的压力。

图为：宾得645D

图为：宾得645D

图为：宾得645D

图为：宾得645D简易外包装

图为：宾得645D简易外包装

    除了新品备受关注之外，宾得的K-X、K-7、W90等相机，以及一系列镜头展品也非常受观众欢迎。

图为：宾得K-X展示

图为：宾得K-X展示

图为：宾得K-7展示

图为：宾得镜头展区

图为：宾得镜头展区

　　本届P&E大展即第13届中国国际照相机械影像器材与技术博览会（2010 CHINA P&E），吸引了国内外众多影像产品厂商参展，为亿万专业、业余消费者展示五彩缤纷的摄影精品，厂商互动活动精彩纷呈，堪称照相机影像器材与技术的盛宴。关于2010 CHINA P&E的更多精彩报道，敬请关注中关村在线数码影像频道与P&E特别专题报道//dcdv.zol.com.cn/topic/966814.html。