9月3日，据相关报道，英特尔将与日本产业技术综合研究所（AIST）合作，在日本建立一个芯片研发基地。该基地预计将在三到五年内建成，并配备先进的极紫外线光刻（EUV）设备。
这些设备将被制造商和材料公司租赁使用，用于原型设计和测试。这是日本首个由行业成员共同使用的极紫外光刻设备中心。
值得一提的是，产业技术综合研究所隶属于经济产业省，其目标是利用集成科学和工程知识来解决日本社会和经济发展所需的问题。该公司总部位于东京，在2001年成为独立行政机构的一个新设计的法律机构。
根据报道，这个新的研发基地将有助于推动日本半导体行业的发展，并促进日本在科技领域的竞争力。同时，这也表明了英特尔对于未来市场需求的关注和准备，为其在全球范围内保持领先地位提供支持。
这款极紫外光刻设备（EUV）是当今最先进的半导体制造技术之一，具有更高的分辨率、更快的速度和更低的成本。此外，英特尔还在投资其他关键领域，以保持其技术领先地位。
综上所述，英特尔与产业技术综合研究所的合作将为两国的科技发展带来积极影响。这一举措也展示了双方在创新和技术领导力方面的承诺，并为未来发展奠定了基础。
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