英特尔宣布世界首台商用High NA EUV光刻机完成组装，计划明年投入研发使用

英特尔完成首台商用High NA EUV光刻机的组装工作，目前正在进行光学系统校准。这台光刻机型号为TWINSCAN EXE:5000，价值约3.5亿美元（约合25.38亿元人民币）。High-NA EUV光刻机的密度是0.33NA EUV光刻机的1.7倍，可以在更精细的尺度上制造半导体产品，并推动技术发展。

英特尔计划从2025年的18A新技术验证节点开始，在先进芯片开发和制造中同时使用0.55NA和0.33NA的EUV光刻机。此外，英特尔还计划购买下一代TWINSCAN EXE:5200B光刻机，该机型晶圆吞吐量超过每小时200片。

根据此前报道，ASML在2021年时对后EXE:5000产品的称呼是EXE:5200。目前尚不清楚EXE:5200B是否为改名或改进型号。

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