据国外博主透露，苹果公司正在测试一种新的抗反射光学涂层技术，旨在降低镜头的炫光和鬼影等伪影，从而提升照片质量。根据供应链消息显示，苹果正在考虑在其iPhone相机镜头制造工艺中引入原子层沉积（ALD）设备。
ALD是一种纳米技术，通过将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面来实现纳米级超薄薄膜沉积。该工艺主要用于喷涂抗反射涂层，有助于减少摄影中的各种失真现象。例如，在强光源下拍摄时，可能会出现条纹和光晕等问题，而使用ALD技术可以有效减少这些问题。
此外，ALD应用材料还可以保护相机镜头系统免受环境损害，并且不会影响传感器的有效光线捕捉能力。苹果计划将其应用于iPhone Pro系列机型中，这将使用户在未来的iPhone产品中享受到更好的拍摄体验。
综上所述，苹果研发的新技术有望改善照片质量并减少镜头炫光和伪影等问题，如果成功应用于iPhone上，将进一步巩固苹果在智能手机摄影领域的领先地位。对于普通消费者而言，这意味着他们可以在未来的产品中拍摄出更清晰、更细腻的照片。
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